人工晶体学报

北大核心,CA,JST,WJCI,

国内刊号:11-2637/O7

国际刊号:1000-985X

人工晶体学报杂志2025年第12期:Gd3(Al,Ga)5O12∶Ce闪烁屏的同步辐射X射线成像研究

发布日期:

作者:李铭清, 赵书文, 封晶, 郑祥, 郭瀚, 袁兰英, 丁栋舟, 冯鹤

单位:1.上海大学材料科学与工程学院,上海 200444;2.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 201899;3.中国科学院上海高等研究院,上海 201204

关键词:GAGG∶Ce,石榴石,闪烁体,闪烁屏,X射线成像,空间分辨率,

基金:国家重点研发计划(2022YFB3503900);国家自然科学基金面上项目(12275347);中国博士后科学基金(2023M743649)

Gd3(Al,Ga)5O12∶Ce(GAGG)闪烁体综合性能优异,是高空间分辨率闪烁屏的重要候选材料。探究GAGG闪烁屏空间分辨率的影响因素是一项重要且极具挑战的任务。本工作制备了一系列GAGG单晶闪烁屏,测试了其光学与闪烁性能,通过Geant4模拟计算了理论空间分辨率,在上海同步辐射光源(SSRF)BL13HB光束线站开展了成像试验。结果表明,GAGG闪烁屏对生物组织与工业芯片具有优异的成像效果。GAGG闪烁屏的理论空间分辨率为0.4 μm,本实验最高可实现0.9 μm(555 lp/mm)。对比发现,闪烁屏厚度在0.3~1 mm变化不会对空间分辨率产生显著影响,空间分辨率对闪烁屏的表面状态和光学透过率更敏感。因此,在后续制备GAGG闪烁屏的过程中,可不用过分追求超薄厚度,而应将更多注意力放在如何提高单晶光学质量,比如优化生长工艺,减少包裹体;改进抛光工艺,提升闪烁屏表面光洁度。

来源:2025年第12期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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