人工晶体学报

北大核心,CA,JST,WJCI,

国内刊号:11-2637/O7

国际刊号:1000-985X

人工晶体学报杂志2025年第8期:硒添加量对硒化镉单晶电学和光学性能的影响研究

发布日期:

作者:窦瑛, 王英民, 高彦昭, 程红娟

单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所,新型半导体晶体材料技术重点实验室,天津 300220

关键词:CdSe单晶,添加Se,电阻率,红外透过率,夹杂相密度,电学性能,光学性能,

采用有籽晶的高压布里奇曼法生长出CdSe单晶,并对不同Se添加量的CdSe单晶进行了性能研究。结果表明,添加的Se填充了单晶中的VSe,降低了Cd/Se质量比,并未影响晶体的Raman特征峰。进而对添加Se的CdSe晶体的电学性能、光学性能和夹杂相进行了分析,数据表明,添加的Se填充VSe后,降低了CdSe单晶中的自由载流子浓度,提升了单晶电阻率,减弱了自由载流子对红外光子的吸收,同时添加Se增强了CdSe单晶结构的稳定性,降低了夹杂相密度,二者协同作用,优化了CdSe单晶的电学和光学性能,CdSe单晶呈现出高电阻率,达到108 Ω·cm以上,8~12 μm波段红外透过率提升到69%,为其在长波红外固体激光器等领域的应用提供了借鉴意义。

来源:2025年第8期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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