人工晶体学报

作者：陈峰武, 吕文利, 龚欣, 薛勇, 巩小亮

单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙 410111

关键词：分子束外延设备,化合物半导体,国产化,超高真空,

基金：国家重点研发计划(2022YFB3404400)

分子束外延(MBE)设备具有超高真空、超高精度、超高均匀性薄膜沉积等特点,是化合物半导体材料、器件制造的核心工艺装备,被广泛用于固态微波射频器件、半导体激光器、探测器等外延薄膜制备。本文在简要介绍MBE设备及技术特点的基础上,首先详细阐述了Riber、Veeco、DCA等国际知名厂商的MBE设备发展历程及产品现状;接着对中国电科48所(CETC48)、沈阳科仪(SKY)、费勉仪器(FERMI)等国内代表性厂商的MBE设备国产化进展情况进行介绍;最后对MBE技术的未来发展趋势进行了展望,并指出当前MBE设备国产替代恰逢其时,需要抓住机遇,克服挑战,快速推进我国MBE设备的技术迭代和产业化应用,为我国科技自立自强提供重要支撑。

来源：2024年第9期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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