人工晶体学报

作者：蔡晓佳, 黄家健, 孙丹丹, 梁嘉盈, 唐秀凤, 张炯

单位：1.五邑大学应用物理与材料学院,江门 529020; ；2.东莞理工学院化学工程与能源技术学院,东莞 523808; ；3.五邑大学土木建筑学院,江门 529020

关键词：电致变色,NiOx,响应时间,记忆效应,循环稳定性,附着力,

基金：国家自然科学基金(12004285);五邑大学创新创业基金(2022CX47)

为研究基底温度对NiOx薄膜综合电致变色性能的影响,在基底温度分别为室温、50、100、200和300 ℃下,采用直流反应磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并对薄膜的形貌、循环稳定性、光学调制率、记忆效应、响应时间和附着力等性能进行测试表征和对比分析。研究结果表明,基底温度对NiOx薄膜的电致变色性能影响较为复杂,基底温度为100 ℃时制备的薄膜综合性能最优,具有电荷容量密度衰减率低、记忆效应好、响应速度快、调制率高和与基底附着力较好等特点。本研究对NiOx基电致变色器件的设计和制备具有一定的参考意义。

来源：2024年第8期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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