国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:林锦添, 高仁宏, 管江林, 黎春桃, 姚妮, 程亚
单位:1.中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室,上海 201800; ;2.华东师范大学物理与电子科学学院,上海 200241; ;3.华东师范大学精密光谱科学与技术国家重点实验室,上海 200062; ;4.之江实验室智能感知研究院,杭州 311100
关键词:薄膜铌酸锂,微纳加工,光集成器件,非线性光学,电光调制器,光频梳,
基金:国家重点研发计划(2019YFA0705000);国家自然科学基金(62122079,12192251,62235019,12334014,12134001,12104159,11933005)
近年来得益于薄膜铌酸锂晶圆离子切片技术和低损耗微纳刻蚀工艺的飞速发展,薄膜铌酸锂光集成结构提供了光场紧束缚、快速电光调谐、高效频率转换和声光转换的空前能力,各种高性能的薄膜铌酸锂光集成器件不断涌现,且朝着大规模光集成芯片的方向迅猛发展,为高速信息处理、精密测量、量子信息、人工智能等重要应用提供了全新的发展动力。本文主要围绕铌酸锂晶体发展历史、薄膜铌酸锂离子切片技术发展历程、极低损耗微纳刻蚀技术演化进程,以及高性能的薄膜铌酸锂光集成器件进展进行总结,并展望了未来的发展趋势。
来源:2024年第3期
《人工晶体学报》期刊编辑部