人工晶体学报

作者：南博洋, 洪瑞金, 陶春先, 王琦, 林辉, 韩朝霞, 张大伟

单位：1.上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093; ；2.教育部光学仪器与系统工程研究中心,上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093

关键词：氧化铟锡,局部表面等离子体共振,非线性光学响应,Z扫描,增强电场,掺杂,电子束蒸发,

基金：国家自然科学基金(61775141,62075133)

本文通过电子束蒸发技术制备了金属锡掺杂浓度不同的一系列ITO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计、四探针测电阻仪和Z扫描系统分别对ITO薄膜的物相结构、微观形貌、光学吸收、方块电阻和非线性光学性能进行测试和表征。结果表明,随着金属锡掺杂浓度由10%增加到30%:ITO薄膜的结晶质量增加;薄膜表面粗糙度增加,晶粒尺寸逐渐增大;等离子体吸收增强,且吸收峰的位置发生红移,光学带隙变窄;薄膜的方块电阻不断减小;非线性吸收系数逐渐增加,绝对值最大可以增至2.59×10-7 cm/W。时域有限差分拟合结果表明金属锡掺杂浓度不同的ITO薄膜电场强度变化规律与实验结果相一致。

来源：2023年第9期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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