人工晶体学报

作者：王栋, 魏子健, 张倩, 夏月庆, 张秀丽, 王天汉, 袁志华, 兰明明

单位：河南农业大学机电工程学院,郑州 450000

关键词：过渡金属硫族化合物,化学气相沉积,盐辅助化学气相沉积,金属有机化学气相沉积,二维材料,前驱体,影响因素,

基金：中科院先导项目(B)子课题(XDB44000000-6)

二维过渡金属硫族化合物(TMDs)是继石墨烯之后的新型二维材料,由于其自身的独特物理化学性质在半导体、光电材料、能源储存和催化制氢等方面备受瞩目。化学气相沉积(CVD)是目前适合实现大规模制备二维材料的工艺之一,制备过程中参数的高度可控性使其具有很大优势。本文综述了近期通过CVD制备TMDs的研究进展,探讨了在CVD制备工艺中各种参数对产物生长和最终形貌的影响,包括前驱体、温度、衬底、辅助剂、压力和载气流量等。列举了一些改进的CVD制备工艺,并对其特点进行了总结。最后讨论了目前CVD制备TMDs所面临的挑战并对其发展前景进行展望。

来源：2023年第1期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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