国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:赵子楠, 武金涛, 梁智健, 朱亚彬, 刘歌, 陈云琳
单位:1.北京交通大学物理科学与工程学院,物理系,北京 100044; ;2.北京交通大学物理科学与工程学院,微纳材料及应用研究所,北京 100044
关键词:掺氧二硫化钼,氧气辅助技术,磁控溅射,羽辉,透过率,光学带隙,COMSOL,
基金:国家大学生创新训练计划(2101700066)
二硫化钼(MoS2)在环境中的热稳定性和化学稳定性好,迁移率相对较高,已应用于气体传感器、光电探测器和场效应管等器件的研制。采用氧气辅助技术生长的氧掺杂MoS2(MoS2-xOx)不仅可以调控MoS2单晶尺寸,还能提高MoS2单晶光致发光强度。本文采用射频反应磁控溅射技术、自然环境中氧化和热退火工艺,改变溅射羽辉与玻璃基底夹角来制备MoS2-xOx薄膜并研究其光学性质。采用X射线光电子能谱分析了样品的元素和价态;扫描电子显微镜观测的结果表明,溅射羽辉与基底成45°(θ=45°)时表面形貌为最优;紫外-可见分光光度计的测试结果表明,随着厚度和氧含量的增加,MoS2-xOx薄膜的光学带隙减小;采用COMSOL Multiphysics软件模拟了MoS2-xOx薄膜光学透过率,理论和实验结果相吻合。本文的研究结果将为MoS2-xOx薄膜在光学领域的应用提供科学参考。
来源:2022年第11期
《人工晶体学报》期刊编辑部