人工晶体学报

作者：程媛媛, 黄瑜佳, 朱归胜, 徐华蕊, 万乐, 焦培文, 汪坤喆

单位：1.桂林电子科技大学材料科学与工程学院,电子信息材料与器件教育部工程研究中心,广西信息材料重点实验室,桂林 541004; ；2.广西中沛光电科技有限公司,来宾 546100

关键词：磁控溅射,分层溅射,复合薄膜,ITO薄膜,Ag薄膜,溅射温度,

基金：广西科技计划项目(桂科AA21077018,桂科AB20297053);国家自然科学基金重点项目(U21A2065);“科技助力经济2020”重点专项(SQ2020YFF0425649);广西信息材料重点实验室基金(201002-Z)

本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In2O3)∶m(SnO2)=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm)靶材分层溅射,使ITO薄膜和Ag薄膜依次沉积在钠-钙玻璃基片上。结果表明,溅射温度对该薄膜的形貌和结构具有显著的影响。在中间Ag薄膜和顶层ITO薄膜的溅射温度均为120 ℃时,薄膜表面晶粒形貌由类球形转变为菱形,此时薄膜方阻为3.68 Ω/Sq,在488 nm处透射率为88.98%,且品质因数为0.03 Ω-1,实现了低方阻高可见光透射率ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的制备。

来源：2022年第6期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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