国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:李佳樨, 熊正斌, 肖骁, 刘心尧, 余孟秋, 陈宝军, 黄巍, 何知宇
单位:四川大学材料科学与工程学院,成都 610064
关键词:半导体晶体,CdGeAs2晶体,类籽晶技术,布里奇曼法,单晶生长,多晶合成,变温霍尔效应,红外透过谱,
基金:四川省应用基础计划(2016JY0121)
采用温度振荡法和改进的布里奇曼法进行了CdGeAs2多晶合成与单晶生长,生长出ϕ28 mm×65 mm完整无开裂的CdGeAs2单晶体。用金刚石外圆切割机切割出CdGeAs2晶片,采用X射线衍射(XRD)和X射线能量色散谱仪(EDS)对合成的多晶粉末和切割出的晶片进行表征。结果表明,合成产物为单相四方黄铜矿结构的CdGeAs2多晶,晶片的原子百分比接近于理想化学计量比。经傅里叶变换红外分光光度计测试发现,初生长的CdGeAs2晶体在11.3 μm处的吸收系数为0.117 cm-1,经过拟合计算得出禁带宽度为0.52 eV。通过变温(110~300 K)霍尔效应测试表明,CdGeAs2晶体在110~300 K温度范围内都为p型导电,载流子浓度pH和霍尔系数RH随温度的升高分别升高和下降,而霍尔迁移率μH几乎不变。拟合计算出晶体中受主电离能EA=0.305 eV,并进一步分析了生长晶体中可能存在的受主缺陷。
来源:2022年第2期
《人工晶体学报》期刊编辑部