人工晶体学报

作者：熊光辉, 李军, 李凯旋, 吴成, 于宁斌, 高秀娟

单位：南京航空航天大学机电学院,南京 210016

关键词：KDP晶体,固结磨料垫,晶体加工,干式抛光,摩擦磨损,反应物,

基金：国家自然科学基金联合基金(U20A20293);国家自然科学基金面上项目(52075318);江苏省“六大人才高峰”高层次人才项目(JXQC-010);中国科学院功能晶体与激光技术重点实验室开放课题(FCLT201803)

本文通过固结磨料球与KDP晶体对磨的单因素试验探究固结磨料球中反应物种类、磨粒浓度、反应物浓度、基体硬度对摩擦系数、磨痕截面积和磨痕处粗糙度的影响,试验结果表明:KHCO3固结磨料球对磨后磨痕对称性好,磨痕处的粗糙度值低;磨痕截面积随磨粒和反应物浓度的增加而增大,随基体硬度的增大而降低;磨痕处粗糙度随磨粒和反应物浓度的增加先降低后上升,随基体硬度的增大先上升后降低;摩擦系数受磨粒和反应物浓度影响不明显,随基体硬度的增大而降低。选择KHCO3作为反应物,Ⅰ基体,磨粒浓度为基体质量的100%,反应物浓度为15%制备固结磨料球与KDP晶体对磨后的磨痕轮廓对称度好且磨痕处粗糙度值低,以该组分制备固结磨料垫干式抛光KDP晶体,可实现晶体表面粗糙度Sa值为18.50 nm,材料去除率为130 nm/min的高效精密加工。

来源：2022年第2期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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