人工晶体学报

作者：计健, 梁志强, 周海, 蒋网, 任相璞

单位：1.盐城工学院机械工程学院,盐城 224051;；2.北京理工大学机械与车辆学院,北京 100081

关键词：抛光液,单因素试验,正交试验,材料去除率,化学机械抛光,表面活性剂,蓝宝石加工,

基金：国家自然科学基金(51675457);盐城工学院研究生创新项目(SJCX21_1521)

本文利用单因素及正交试验探究磨粒种类、抛光液pH值、表面活性剂种类、磨粒粒径对C面蓝宝石化学机械抛光材料去除率的影响,试验结果表明: 采用二氧化硅作为磨粒能得到较高的材料去除率及较好的表面形貌;材料去除率随抛光液pH值的增大呈现先增大再减小的趋势,其中pH值在9附近能得到较好的去除率;材料去除率还随着磨粒粒径的增大而增大;使用三乙醇胺(TEA)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作表面活性剂能得到较高的材料去除率;各试验因素对蓝宝石晶片材料去除率的主次顺序为磨粒粒径、表面活性剂、抛光液pH值;其中当磨粒粒径为50 nm,表面活性剂选CTAB,抛光液pH值为9既能得到较高的材料去除率又能获得较好的表面质量。

来源：2021年第12期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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