人工晶体学报

作者：杨欣蕾, 弥谦, 龚立榕, 周凤琳

单位：西安工业大学光电工程学院,陕西省光学先进制造工程技术研究中心,西安 710021

关键词：磁控溅射,磁场分布,圆柱靶,有限元分析,COMSOL,结构参数,真空镀膜,设计与仿真,

基金：开放基金(ZSKJ202002)

为探究一种可实现向心溅射的圆筒式柱面磁控阴极靶,需要对靶装置内的磁场分布进行研究,进一步讨论靶结构参数对其磁场分布的影响规律。本文根据磁控靶的结构与工作原理,利用COMSOL Multiphysics有限元分析软件中AC/DC接口,对靶进行三维模型构建、划分网格和仿真计算。通过改变靶内磁体形状尺寸、磁轭形状以及结构排布,对靶面磁场的分布进行规律探究。最终确定新型圆筒式柱面磁控溅射阴极靶内的磁场结构参数,结果表明结构靶面磁场分布均匀且大小满足溅射要求的磁感应强度(20~50 mT),平行靶面均匀磁场区域达35%~40%左右。通过这类靶磁场结构的研究,为设计优化磁控阴极靶提供依据。

来源：2021年第9期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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