人工晶体学报

北大核心,CA,JST,WJCI,

国内刊号:11-2637/O7

国际刊号:1000-985X

人工晶体学报杂志2021年第2期:P和As掺杂Mn4Si7第一性原理计算

发布日期:

作者:钟义, 张晋敏, 王立, 贺腾, 肖清泉, 谢泉

单位:贵州大学大数据与信息工程学院,新型光电子材料与技术研究所,贵阳 550025

关键词:第一性原理,Mn4Si7,掺杂,能带结构,态密度,光学性质,

基金:国家自然科学基金(61264004);贵州省科学技术基金(黔科合基础1028);贵州大学研究生重点课程(贵大研026);贵州省高层次创新型人才培养项目(黔科合人才4015);贵州省留学回国人员科技活动择优资助项目 (黔人项目资助合同09)

采用第一性原理计算方法,对本征Mn4Si7以及P和As掺杂的Mn4Si7的电子结构和光学性质进行计算解析。计算结果表明本征Mn4Si7是带隙值为0.810 eV的间接带隙半导体材料,P掺杂Mn4Si7的带隙值增大为0.839 eV,As掺杂Mn4Si7的带隙值减小为0.752 eV。掺杂使得Mn4Si7的能带结构和态密度向低能方向移动,同时使得介电函数的实数部分在低能区明显增大,虚数部分几乎全部区域增加且8 eV以后趋向于零。此外掺杂还增加了高能区的消光系数、吸收系数、反射系数以及光电导率,明显改善了Mn4Si7的光学性质。

来源:2021年第2期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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