人工晶体学报

北大核心,CA,JST,WJCI,

国内刊号:11-2637/O7

国际刊号:1000-985X

人工晶体学报杂志2021年第1期:甚高频用超低饱和磁化强度In∶BiCaVIG晶体生长及磁特性研究

发布日期:

作者:魏占涛, 游斌, 姜帆, 张平川, 蓝江河

单位:西南应用磁学研究所,绵阳 621000

关键词:In∶BiCaVIG,单晶铁氧体,超低饱和磁化强度,甚高频,

利用加速坩埚转动技术制备了超低饱和磁化强度(Ms)石榴石型In∶BiCaVIG单晶铁氧体材料,系统研究了单晶样品的晶体结构、微观形貌及磁学性能。结果表明:In∶BiCaVIG单晶样品结晶良好,具有体心立方结构;样品的居里温度为104 ℃,饱和磁化强度为60 G,饱和磁化强度偏差达到±20 G, 略优于美国Microphere公司同类型材料产品。经过抛光处理后的球形样品线宽明显减小,最小线宽为5.8 Oe,这是因为化学抛光处理可以均匀腐蚀加工应力层,导致线宽减小。另外,与未掺杂BiCaVIG单晶相比,超低饱和磁化强度样品的线宽明显要大,这主要跟样品的饱和磁化强度大小有关。

来源:2021年第1期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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