国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:李一村;郝晓斌;代兵;舒国阳;赵继文;张森;刘雪冬;王伟华;刘康;曹文鑫;杨磊;朱嘉琦;韩杰才
单位:哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨,150001
关键词:MPCVD单晶金刚石;高速率;高品质,
基金:国家杰出青年科学基金(51625201)
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一.然而其较低的生长速率(~10μm/h)以及较高的缺陷密度(103~107 cm-2)是阻碍MPCVD单晶金刚石应用的主要因素,经过国内外研究团队数十年的不懈努力,在高速率生长和高品质生长两个方面都取得了众多成果.但是除此之外还需解决高速率与高品质生长相统一的问题,才能实现MPCVD单晶金刚石的高端应用价值.
来源:2020年第6期
《人工晶体学报》期刊编辑部