人工晶体学报

北大核心,CA,JST,WJCI,

国内刊号:11-2637/O7

国际刊号:1000-985X

人工晶体学报杂志2020年第2期:C、N、F掺杂对VO2电子结构影响的研究

发布日期:

作者:万金玉, 刘怡飞, 李雪娇

单位:泉州医学高等专科学校,泉州,362000;福建医科大学附属第二医院,泉州,362000;中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800

关键词:第一性原理,二氧化钒,态密度,

基金:福建省自然科学基金计划(2019J01474);泉州市科技计划(2018N121S)

二氧化钒(VO2)是一种热至变色材料,在临界温度340 K有金属-半导体相变.第一性原理计算结果发现:C、N、F元素以1.56;、3.13;、4.69;的原子浓度掺杂M1相VO2的带隙Eg1降低到0.349~0.612 eV,其中氮元素以4.69;的浓度掺杂VO2的带隙Eg1最小(0.349 eV).在C、N、F掺杂M1相VO2体系中,3.13;的N掺杂可以有效降低相变温度,并且对可见光透过率影响不大,所以3.13;的N原子掺杂VO2可以在实际中应用.

来源:2020年第2期

《人工晶体学报》期刊编辑部

查看人工晶体学报杂志2020年第2期

联系我们

  • 地址:北京市朝阳区东坝红松园1号
  • 电话:010-65491290
  • E-mail:jtxbbjb@126.com

咨询工作人员