国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:魏乃光;蒋立朋;李冬旭;杨海;袁琴;郭立;田智瑞;宋姿霖;刘晓华;黎建明;张鹏飞
单位:有研科技集团,有研国晶辉新材料有限公司,三河065201
关键词:化学气相沉积法(CVD);ZnSe;缺陷,
本文介绍了ZnSe晶体的制备方法及其重要应用背景,系统地总结了化学气相沉积法(CVD)制备ZnSe过程中产生的各类缺陷,包括云雾、孔洞和微裂纹、夹杂、分层和胞状物.采用SEM、体视显微镜、金相显微镜、傅里叶光谱仪等方法对缺陷进行了表征.结合国内外文献和检测结果,对各类缺陷可能的产生机理及抑制方法进行了阐述与分析.
来源:2020年第1期
《人工晶体学报》期刊编辑部