人工晶体学报

作者：李冬旭;魏乃光;蒋立朋;黎建明;杨海;张鹏飞;牛延星;田智瑞;郭立;杨建纯;刘晓华

单位：有研科技集团有研国晶辉新材料有限公司,三河,065201

关键词：化学气相沉积法(CVD);晶粒尺寸;喷射结构;力学性能,

基金：军工资助项目

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法.通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法.研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVD ZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能.

来源：2019年第8期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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