国内刊号:11-2637/O7
国际刊号:1000-985X
发布日期:
作者:杨海;魏乃光;杨德雨;李红卫;霍承松;黎建明;李冬旭;杨建纯;史晶晶;郭立
单位:北京有色金属研究总院有研国晶辉新材料有限公司,三河,065201;北京有色金属研究总院有研国晶辉新材料有限公司,三河065201;北京有色金属研究总院有研新材料股份有限公司,北京100088;北京有色金属研究总院有研新材料股份有限公司,北京,100088
关键词:CVD-ZnS;胞状生长;晶体结构;材料性能,
采用化学气相沉积法(CVD)制备大尺寸ZnS晶体(CVD-ZnS),利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射分析对CVD-ZnS内部的胞状结构进行表征,表明胞状生长现象能改变CVD-ZnS材料内部的晶粒生长方向、分布方式,但对材料内部的物相、元素分布并未造成显著影响;通过对胞状物密集区的光学均匀性检测,分别为2.71×10-5和2.85×10-5,均方根值分别为6.46×10-6和4.98×10-6,正常区域的样品光学均匀性为9.53×10-6,均方根值为1.51 ×10-6,表明胞状物的存在会降低CVD-ZnS材料的光学均匀性;采用三点弯曲法测试材料弯曲强度,四组弯曲强度数据表明CVD-ZnS正常区的弯曲强度明显高于CVD-ZnS胞状物密集区.
来源:2019年第7期
《人工晶体学报》期刊编辑部