人工晶体学报

作者：王孝锋;侯大寅;徐珍珍;徐文正;杨莉

单位：安徽工程大学纺织服装学院,芜湖,241000

关键词：碳膜;磁控溅射;表面粗糙度;均匀性;静态接触角,

基金：安徽省科技厅对外国际合作项目(1704e1002213);"纺织面料"安徽省高校重点实验室基金(2018AKLTF10);校级国家科学基金预研项目(2017yyzr05)

为了分析磁控溅射工艺对碳膜表面形貌及浸润性的影响,在室温下采用磁控溅射技术在硅片表面沉积碳膜,并利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)、静态接触角测量仪对所得碳膜进行表征.结果表明:随着溅射功率的提高,碳膜表面粗糙度先减小后增大,致密性逐渐改善,静态接触角先增大后减小;随着溅射时间的延长,碳膜的表面粗糙度逐渐增加,均匀性在一定的溅射时间内逐渐改善,静态接触角呈现先减小后增大再减小的趋势;随着溅射压强的增加,碳膜表面粗糙度先增大后减小,致密性在过高的溅射压强下会变差,静态接触角先减小后增大.

来源：2019年第2期

《人工晶体学报》期刊编辑部

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